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產品介紹

  • 特色/設計說明
  • 性能特點
  • 應用/解決方案
  • 高密度感應耦合式(ICP)電漿設計:電漿密度可達 1011~1013/cm3
  • 雙電極專利設計:ICP電極及電場強化電極設計。
  • 離子移動方向可被控制。
  • 電漿滲透度高:電漿離子移動距離可遠達300 mm。
  • 可選擇多種反應氣體。
  • 極低氣體耗量。
  • 可儲存38組操作參數。
  • 可選擇手動或自動操作模式。
  • 腔體中可擺放產品數量:一般可同時處理6~10個料盒或10~15個tray盤。
  • 高自動化與易操作人機介面設計。
  • 可適用於不開槽或開槽之料盒。
  • 可承載10~15個tray盤。
  • 適用於多種氣體,例如氬氣、氧氣、氫氣或混合氣,以達到最佳之清潔效果。
  • 適用於物理反應、化學反應、物理及化學反應同時產生之方法。
  • 極佳之清潔效率。
  • 非常高之清潔均勻性。
  • 通常每個料盒常可以擺放20條BGA基板。
  • 通常每個料盒常可以擺放20~40條導線架。
  • 每小時之產能極高,通常可以清潔480~1440 BGA基板或導線架,或高達一萬片之1.5液晶面板。
  • 氣體消耗量極少。
  • 可適用於IC封裝或LED封裝於固晶、打線或封膠前的基板清潔。
  • 適用於晶圓之清潔。
  • 可清洗Flip-Chip, PBGA, Window-BGA, Mini-BGA, Micro-BGA, QFN/MLP, TFBGA (Film-BGA), LFBGA, VBGA (EBGA), Pin BGA, QFN/MLP, TCP, PCB, COB, Cu L/F, Ag-Plating L/F, Fe L/F, MMC, SD, Micro-SD等各式基板或導線架。
  • 可適用於LCM段在COF、COG、Tape製程前玻璃及ITO Lead之清潔。